
设备概述
- 在托盘上吸取晶片,并在图像测量和位置校正后将晶片放置到金属掩膜版MASK上的设备。
- 也可应用于小型芯片的移载和排列
特征・特点
- 通过图像识别托盘上的晶片,吸嘴吸附后进行图像测量和位置校正,并将晶片放置到金属掩膜版MASK上的设备。
- 通过「识别托盘上晶片的图像解析相机」、「MASK位置修正相机」、「吸附晶片后进行位置修正的相机」这3台相机进行高精度图像管理,将小型晶片放置到金属掩膜版MASK上的设备。
- 适用于 2016/1612/1210 的小型和薄型晶片。
- 占用空间小,仅为 1000×1000 (mm)
使用实例
- 在托盘上吸取晶片,并在图像测量和位置校正后将晶片放置到金属掩膜版MASK上的设备。
选项
- 也可应用于小型芯片的移载和排列
- 可作为小型芯片的移载设备将芯片移载至间距不同的托盘
- 可将水晶Blank移载至清洗盘
- 除了1.5秒的标准节拍,还可以制作0.8秒的高速版本
简易规格表
项目 | 内容 |
---|---|
目标工件 | 石英片(水晶片) |
目标工件尺寸 | 3.2×2.5、2.5×2.0、2.0×1.6、1.6×1.2、1.2×1.0(㎜)晶片 ※标准规格为尺寸相近的3个品种 |
目标厚度 | 20μm~200μm(少于这个厚度请咨询。) |
图像位置修正 | 金属掩膜版MASK的位置修正、晶片位置修正和旋转方向修正 |
供应工件方式 | 平板托盘(散装用托盘) |
收纳工件方式 | 金属掩膜版MASK(设置于10层料盒) |
循环时间 | 约1.5秒/个 |
装入率 | 98%以上 |
外型尺寸 | W1000×D1000×H1670㎜(不包括HEPA Filter、旋转信号灯等突起物) |
选项 | 可移载到清洗盘等 |
※ 因改善、改良,规格、外观可能在无事先通知的情况下进行变更。